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テープアウト・フローにおいて製造を加速し、リソグラフィのエラーを減少させるために、最新のRETソリューション とOPCツールが必要です。ケイデンスは、先端的なOPCツール（process & proximity compensation）を提供します。また、業界で広く使用されているマスクデータ・プリパレーション・ツール、リソ解析ツールを提供します。これらはナノメータ・プロセスノード向けに大手ファウンドリ・メーカでもご使用いただいています。
レチクル／ウェハレイアウト合成を自動で最適化します。エラーをなくし、マスク作成のサイクルタイムを低減させます。
GDS II/OASISなどのレイアウト設計データとをいろいろな業界標準のEB描画フォーマットをビューすることができます。製造関連のデータを重ね合わせてビューすることもできます。
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